采用创新等离子体技术，实现更高的刻蚀速率与精度。
深度去除微米级残留，提升产品良率与可靠性。
灵活组合，多型号适配不同生产线需求。
研发、生产、售后全链条支持，帮助客户快速投产。
扬州国兴技术有限公司专注于等离子体刻蚀与表面清洁处理设备研发，致力于为半导体、面板、摄像模组等高精尖行业提供高效、可靠的解决方案。我们提供的等离子体刻蚀设备拥有高刻蚀速率、低损伤率和出色的重复性，帮助客户提升产能并降低制造成本。
在表面清洁处理方面，国兴技术的设备可以实现微米级残留物彻底去除，显著提升产品良率。配套的电子添加剂更是通过化学控制实现环保、低耗能的加工过程，符合工业4.0的绿色制造理念。
选择扬州国兴技术有限公司，就是选择专业、创新和全链条技术支持。无论是等离子体刻蚀、表面清洁，还是电子添加剂的定制，我们都有成熟的案例和经验，帮助您快速投产、提升竞争力。