国产集成电路涂胶显影设备领航者

十余年技术沉淀,提供全自动涂胶显影、光刻胶超声波喷涂、湿法清洗等全套半导体专用设备,覆盖2‑12英寸晶圆,满足科研、中试及量产需求。

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核心优势 & 关键特性

全自动化生产线

从涂胶、显影到清洗全流程自动化,提升产能,降低人力成本。

国产自主可控

完全国产关键部件,实现技术自主可控,符合国家政策扶持方向。

ISO9001 & 高新认证

通过ISO9001质量体系和国家高新技术企业认证,质量有保证。

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沈阳芯达科技有限公司专注于集成电路涂胶显影(clean track)技术,提供全自动涂胶显影、光刻胶超声波喷涂、湿法清洗、湿法去胶、干法刻蚀、晶圆表面极性(HMDS)等系列设备,满足2‑12英寸晶圆的全部工艺需求。

我们的设备通过ISO9001质量体系认证,拥有国家高新技术企业资格,在国内半导体设备领域具备领先的技术优势和可靠的售后服务。

无论您是科研机构、半导体中试生产线还是大批量量产工厂,芯达的全自动化解决方案都能帮助您提升良率、降低成本、实现国产化突破。

常见问题

设备系列覆盖 2‑12 英寸晶圆,能够满足从小尺寸研发到 12 英寸量产的全流程需求。

是的,所有出厂设备均通过 ISO9001 质量体系认证,确保产品质量和交付可靠性。

设备采用模块化设计,常规保养每 6 个月一次,保养费用相对同类进口设备低 30% 以上,具体费用请咨询客服。