蓝光44.6% / 红光45.0% 的光电转换效率，显著提升光刻灵敏度。
光刻线宽可达1µm，满足高端半导体与微显示的严苛要求。
兼容半导体、微显示、光电子和新材料等多个高技术领域。
“QD-PR 的转换效率让我们的光刻流程大幅缩短，生产成本降低30%。”
“1µm 的线宽精度满足了我们在微显示芯片上的极限需求。”
“与光谷实验室合作的研发速度惊人，快速进入量产阶段。”
翰博高新材料（合肥）股份有限公司的量子点光刻胶（QD-PR）以其卓越的44.6%蓝光转换效率和45.0%红光转换效率，在业界树立了新的标杆。该产品专为半导体、显示和光电子行业设计，能够实现1µm微米级光刻精度，满足高密度集成电路的严苛需求。
通过与光谷实验室和华中科技大学的深度合作，QD-PR在光刻剂量、显影稳定性以及环境适应性方面表现卓越，已在多家领先企业的生产线上成功验证。无论是先进制程的半导体光刻，还是微显示面板的高分辨率图案化，均可凭借QD-PR实现更快的产能提升与成本控制。
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