我们提供的 ALD/CVD 前驱体纯度≥99.99%，满足行业严苛的薄膜沉积需求。
标准及定制源瓶可选，兼容市面主流沉积系统，方便快速集成。
高活性贵金属催化剂，广泛用于有机合成与表面改性实验。
从气相沉积装置到表征仪器，全线产品覆盖，提升实验效率。
国内外仓储网络，保证货源充足，48h内完成发货。
严格的质量控制体系，提供完整的检测报告与技术支持。
南京爱牟源的 ALD 前驱体纯度极高，薄膜均匀性显著提升，项目进度提前了两周。
— 张教授，南京大学材料科学系
他们的贵金属催化剂在我们的有机合成实验中表现非常稳定，售后技术支持也非常及时。
— 李博士，上海化工研究院
南京爱牟源科学器材有限公司专注于 ALD 前驱体、CVD 前驱体、MLD 前驱体以及贵金属催化剂的研发与供应，致力于为科研机构、半导体企业及高新技术产业提供高纯度、稳定可靠的化学品。
我们的产品广泛应用于薄膜沉积、表面修饰、光电子器件制备以及有机合成等多个领域。无论是高校实验室还是工业规模生产，均可通过南京爱牟源获得完整的技术支持与快速交付服务。
选择南京爱牟源，您将拥有一站式的实验室仪器与化学品采购解决方案，提升研发效率，降低实验成本。