拥有纳米压痕、激光分子束外延、脉冲激光沉积等核心技术，持续创新，为客户提供最前沿的科研设备。
设备采用高精度控制系统，确保实验数据的重复性与可靠性，满足科研与工业级应用需求。
依据客户实际需求，提供软硬件一体化定制，灵活适配不同实验场景，实现最佳测量效果。
“正通远恒的纳米压痕仪器精度极高，帮助我们在材料研究中获得了突破性进展。”
— 某高校材料科学研究院“激光分子束外延系统的稳定性非常好，极大提升了我们半导体薄膜的制备效率。”
— 国有半导体企业研发部“ALD设备的均匀性和可重复性让我们在纳米尺度上实现了精准的薄膜控制。”
— 某科研院所纳米技术中心北京正通远恒科技有限公司在纳米压痕技术方面拥有多年研发经验，能够提供高精度的材料力学测试服务，帮助科研机构快速获取可靠的实验数据。
我们的激光分子束外延设备拥有卓越的薄膜沉积均匀性，广泛应用于半导体、光电子和新材料的研发，满足高端实验的严格要求。
脉冲激光沉积（PLD）系统具备极快的材料蒸发与沉积速率，适用于多种功能薄膜的制备，深受材料科学家好评。
阴极发光（CL）与阴极荧光（CFL）技术为等离子体诊断提供了强有力的手段，已在多个国家重点实验室得到验证。
原子层沉积（ALD）技术实现了原子级厚度控制，确保了薄膜在复杂结构中的完美覆盖，是纳米制造的关键工艺之一。