采用先进微波等离子体技术，实现更高的沉积速率，显著提升产能。
支持直径≥200mm金刚石薄膜，满足大面积应用需求。
全数字化控制系统，确保温度、压力、气体流量的精确调节。
提供从方案设计、装机调试到培训维护的一站式服务。
“纽曼和瑞的MPCVD系统极大提升了我们的生产效率，金刚石薄膜质量稳定可靠。”
“从方案咨询到设备交付，服务团队专业且响应迅速，值得信赖。”
“我们在量子技术项目中使用其金刚石薄膜，性能表现超出预期。”
成都纽曼和瑞微波技术有限公司专注于微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）技术研发，提供高端金刚石薄膜生产系统，广泛应用于半导体制造、光学元件以及量子技术研发领域。
我们的MPCVD设备拥有大尺寸沉积能力，能够实现直径200mm以上的高质量金刚石薄膜，为客户提供高效、可靠的解决方案。
通过领先的微波等离子体技术，帮助企业提升生产效率，降低成本，实现高精度、高均匀性的薄膜沉积，是高端材料行业的首选合作伙伴。
如需了解更多关于MPCVD系统、金刚石薄膜工艺或定制化解决方案，请填写上方表单，我们的技术专家将尽快与您取得联系。