惠州市科源光电材料有限公司

专注于高纯溅射靶材的研发、生产和销售,为半导体与先进集成电路制造提供可靠的 PVD 解决方案。

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核心优势

高纯度材料

采用先进冶金工艺,保证靶材纯度 ≥99.999%,满足 7nm 及以下制程需求。

多规格供给

提供 2英寸、3英寸、4英寸等多种尺寸,满足不同设备需求。

严格质量控制

通过 ISO9001、IATF16949 认证,质量追溯体系完善。

快速交付

标准产品 3 天交货,定制产品 10 天交付,助力客户产线高效运转。

客户信任

科源光电提供的靶材在我们 5nm 制程中表现极佳,材料纯度和均匀性均满足严格要求。

— 某国内大型半导体企业技术总监

与科源的合作非常顺畅,交期快速且质量稳定,是我们长期合作的供应商。

常见问题

溅射靶材是 PVD(物理气相沉积)技术的核心材料,用于在高真空环境下通过离子轰击靶材表面,沉积出薄膜。广泛应用于半导体、存储器、显示器以及光电子器件的制造。

提供 2、3、4 英寸圆形靶材,材料包括 Al、Cu、Ta、Ti、W、Si、Mo 等常用半导体金属及合金,均经过高纯度工艺处理。

标准订单 3 天交货,定制型号 10 天左右可交付。若有紧急需求,我们提供加急服务,具体时间可根据库存情况确定。

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惠州市科源光电材料有限公司专注于高纯溅射靶材的研发、生产与销售,服务于半导体PVD技术以及先进集成电路制造领域。公司拥有完整的靶材生产线,能够提供符合7nm、5nm制程要求的高纯度材料。

我们深知在半导体行业对靶材的纯度、均匀性以及交付周期的严苛要求,科源光电通过ISO9001、IATF16949等质量管理体系确保每一块靶材都符合最高标准。

如果您正在寻找可靠的溅射靶材供应商,或对我们提供的高纯度金属靶材、合金靶材有任何疑问,欢迎通过上方表单直接联系,科源团队将第一时间为您提供专业方案。