亚微米级加工误差，满足最苛刻的行业要求。
高选择性、低损伤的离子束加工方案。
原子层级沉积，确保薄膜均匀性和附着力。
突破硅基局限，支持多材料、多功能MEMS制造。
“埃德万斯提供的离子束刻蚀技术为我们的航空航天芯片实现了前所未有的精度和可靠性，合作过程专业高效。”
“在非硅MEMS项目中，离子束镀膜工艺帮助我们突破材料限制，产品成功进入批量生产。”
北京埃德万斯离子束技术研究所股份有限公司拥有国内领先的微纳米加工技术平台，专注于离子束刻蚀、离子束镀膜以及非硅MEMS全流程工艺研发。无论是航空航天、半导体、光电子还是生物医疗领域，我们都能提供高精度、高均匀性的离子束加工解决方案，帮助企业实现产品的技术升级与规模化生产。
我们的离子束技术能够实现亚微米级别的图形转移，适用于微纳传感器、微镜头、微流控芯片等高端应用。通过精准的离子束抛光和镀膜工艺，显著提升产品表面质量和功能稳定性，为客户打造“高精度、低损伤、可重复”的加工优势。
如果您对微纳米级精密加工工艺、离子束刻蚀、离子束镀膜或非硅MEMS制造有任何需求，欢迎在此表单提交详细信息，我们的技术专家将在第一时间与您取得联系，为您量身定制最合适的技术方案。