覆盖光刻、刻蚀、沉积全流程，精度可达亚微米级，满足科研与产业需求。
自研UV胶、软模板复制胶、普通光刻胶，兼容多种模板材质，提供一站式材料解决方案。
硬模板定制、抗粘处理、研发代工，助力客户快速实现产品化。
光刻胶分析、结构尺寸测量软件全套，提供精准数据支撑研发决策。
项目立项、工艺评估、产线迁移，全程技术咨询与培训服务。
多系列纳米压印机、超大匀胶机台，确保生产效率与质量的一致性。
鼎元团队在我们微流控芯片项目中提供了全套纳米压印解决方案，交付时间快，产品尺寸误差控制在 50nm 以内。
光刻胶分析软件极大提升了我们的工艺调试效率，配合其自研 UV 胶，流片成功率提升约 30%。
硬模板定制服务交付周期短，抗粘处理效果显著，为我们的大规模生产打开了技术瓶颈。
无锡鼎元纳米科技专注于纳米压印技术、光刻加工与微纳结构研发，拥有全套纳米压印胶、光刻胶、硬模板定制解决方案，能够满足高精度微流控芯片、柔性电子、光电器件等行业的生产需求。
我们提供的光刻胶分析软件与结构尺寸测量软件，帮助客户实现快速工艺评估和精准尺寸控制。通过全流程技术支持，从材料选型、模板制造到成品测试，确保项目顺利落地。
选择鼎元纳米科技，您将获得业内领先的纳米压印设备、专业的材料配方研发以及可靠的产线迁移服务，实现产品的快速迭代与规模化生产。